型号 |
HSM-812VN |
尺寸(mm) |
L2200*D1450*H1818 |
重量 |
约:1400kg |
顶部加热区数量 |
3 |
顶部加热方式 |
热辐射 |
底部加热区数量 |
8 |
底部加热方式 |
接触式 |
冷却区数量 |
2 |
真空区数量 |
1 |
加热板长度 |
340mm |
加热板宽度 |
120mm |
产品厚度 |
0.2-5mm |
生产效率 |
≤120PCS/H |
最大限度温度 |
420℃ |
最小氧气含量 |
50ppm |
加热板温度差异 |
≤±3℃ |
电源 |
3P 380V 50/60Hz |
总功率 |
28千瓦 |
功率消耗 |
≤5千瓦 |
压缩空气压力 |
≥5公斤/平方厘米 |
保护气压 |
2.5公斤/平方厘米 |
水流量 |
8-20升/分钟 |
氮气消耗量 |
约:150-200L/分钟 |
空洞率 |
约:1%-2% |
成为第一个“HSM-812VN 半导体真空炉” 的评价者 取消回复
相关产品
真空回流炉
真空回流炉
真空回流炉
真空回流炉
真空回流炉
真空回流炉
真空回流炉
真空回流炉
评价
目前还没有评价