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型号 |
HSM-1012VN |
| 尺寸（mm） |
L2200*D1450*H1818 |
|
重量 |
约：1400kg |
| 顶部加热区数量 |
3 |
|
顶部加热方式 |
热辐射 |
| 底部加热区数量 |
10 |
|
底部加热方式 |
接触式 |
| 冷却区数量 |
2 |
|
真空区数量 |
1 |
| 加热板长度 |
340mm |
|
加热板宽度 |
90mm |
| 产品厚度 |
0.2-5mm |
|
生产效率 |
≤120PCS/H |
| 最大限度温度 |
420℃ |
|
最小氧气含量 |
50ppm |
| 加热板温度差异 |
≤±3℃ |
|
电源 |
3P 380V 50/60Hz |
| 总功率 |
32千瓦 |
|
功率消耗 |
≤7千瓦 |
| 压缩空气压力 |
≥5公斤/平方厘米 |
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保护气压 |
2.5公斤/平方厘米 |
| 水流量 |
10-25升/分钟 |
|
氮气消耗量 |
约：150-200L/分钟 |
| 空洞率 |
约：1%-2% |
成为第一个“HSM-1012VN 半导体真空炉” 的评价者
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